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GC特氣柜（Gas Cabinet）和GR特氣架（Gas Rack）的功能設(shè)計(jì)

特氣柜Gas Cabinet是專(zhuān)為易燃易爆、腐蝕性、毒性等危險(xiǎn)性氣體供應(yīng)而設(shè)計(jì)的供應(yīng)系統(tǒng)，按類(lèi)別可分為：全自動(dòng)、半自動(dòng)和手動(dòng)操作?；竟δ馨ㄗ詣?dòng)吹掃、自動(dòng)切換以及緊急情況下的自動(dòng)安全切斷（當(dāng)設(shè)定報(bào)警信號(hào)被觸發(fā)時(shí)）。

全自動(dòng)氣柜通過(guò)采用PLC控制，觸控屏為人機(jī)界面，通過(guò)設(shè)備安裝的壓力傳感器、氣動(dòng)閥、過(guò)流量計(jì)等裝置，實(shí)現(xiàn)設(shè)備安全有效的運(yùn)行。其內(nèi)部PLC程式設(shè)計(jì)的安全聯(lián)鎖功能和高純閥件的合理選擇和布局，既滿足了半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)特殊氣體連續(xù)供給和高純度的要求，同時(shí)也確保了工廠正常生產(chǎn)和員工人身安全。下面由蓋斯帕克為大家簡(jiǎn)單介紹一下GC特氣柜（Gas Cabinet）和GR特氣架（Gas Rack）的功能設(shè)計(jì)。

特氣柜/架，VMB/VMP簡(jiǎn)介

GC—Gas Cabinet 氣瓶柜(用于危害性氣體) GR—Gas Rack 氣瓶架(用于危害性氣體)

VMB—Valve Manifold Box 閥門(mén)箱(用于危害性氣體) VMP—Valve Manifold Panel 閥門(mén)盤(pán)(用于危害性氣體) 特氣柜和VMB主要用于易燃易爆腐蝕有毒等危害性氣體，而氣瓶架和VMP一般用于非危害性氣體；主要區(qū)別在于，特氣柜和VMB都要有一個(gè)外殼上有抽風(fēng)管，當(dāng)發(fā)生小泄露等危險(xiǎn)情況時(shí)可將此類(lèi)氣體排出去避免擴(kuò)散產(chǎn)生更大危險(xiǎn)。

Gas Cabinet / Gas Rack 特氣柜/氣瓶架/特氣盤(pán)面 : 功能設(shè)計(jì)

可分為單鋼瓶(1process)/ 雙鋼瓶( 2 Process ) / 三鋼瓶(2 Process + 1 N2) 氣瓶柜內(nèi)的鋼瓶數(shù)設(shè)計(jì)可分為三種：分別為單鋼瓶、雙鋼瓶、三鋼瓶。

（1）單鋼的設(shè)計(jì)通常使用于研究機(jī)構(gòu)或?qū)嶒?yàn)室等。工藝制程尚未有量產(chǎn)，氣體使用量小，現(xiàn)場(chǎng)

可隨時(shí)協(xié)調(diào)停機(jī)進(jìn)行鋼瓶之更換，其優(yōu)點(diǎn)節(jié)省空間、成本低、但需透過(guò)日常之管理與協(xié)調(diào)以免中斷工藝制程造成損失。

（2）雙鋼與三鋼常用于量產(chǎn)工廠，工藝制程不允許停機(jī)情況，當(dāng)一支鋼瓶使用完后，另一支備

用鋼瓶（stand by）會(huì)自動(dòng)轉(zhuǎn)為供氣，此兩種形式最大的差別是在purge管路的純化氮?dú)馐且凿撈炕驈S務(wù)端供應(yīng)，當(dāng)purge用的PN2統(tǒng)一由廠務(wù)端來(lái)供應(yīng)時(shí)，所有特殊氣體供應(yīng)系統(tǒng)不管是否相容，全部連接到同一個(gè)供應(yīng)源，會(huì)有較高的風(fēng)險(xiǎn)值；萬(wàn)一中央供應(yīng)系統(tǒng)的PN2中斷，警報(bào)系統(tǒng)又損壞，恰巧兩種不相容的氣體同時(shí)使用purge，此時(shí)極有可能發(fā)生爆炸的事件發(fā)生，相同性質(zhì)可使用同一瓶鋼瓶來(lái)purge增加的成本及空間非常有限，是一種非常好的應(yīng)變方式。

（3）三鋼氣柜成本不會(huì)差很多安全性會(huì)是最好的，只要空間允許應(yīng)最優(yōu)先選擇。

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