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發(fā)布時(shí)間：2021-04-08 | 游覽：4225

內(nèi)容摘要：電子級(jí)大宗氣體是指用于制造半導(dǎo)體生產(chǎn)的大宗氣體，包括氮?dú)?、氫氣、氬氣、氦氣、氧氣和二氧化碳，那么它們?cè)诎雽?dǎo)體制造中的主要應(yīng)用都是什么呢？

電子級(jí)大宗氣體是指用于制造半導(dǎo)體生產(chǎn)的大宗氣體，包括氮?dú)?、氫氣、氬氣、氦氣、氧氣和二氧化碳，那么它們?cè)诎雽?dǎo)體制造中的主要應(yīng)用都是什么呢？

氣體名稱	應(yīng)用
氬氣	Ar用于等離子沉積和蝕刻工藝的工廠中，還可用于深UV光刻激光器中半導(dǎo)體芯片的最小特征的圖案上。液化氬氣的液滴還被越來(lái)越多的用于清洗最小，最脆弱的芯片結(jié)構(gòu)中的碎屑。
二氧化碳	CO2 可用于支持先進(jìn)的浸沒(méi)光刻，專用低溫清洗應(yīng)用以及DI(去離子水)處理。
氦氣	He是第二輕的元素和最冷的液體，用于電子制造中的冷卻，等離子處理和泄漏檢驗(yàn)。
氫氣	由于更大的工廠和更高的工藝強(qiáng)度需求，H?的使用量正在增加。它用于硅和硅鍺的外延沉積和表面處理。隨著EUV（極紫外線）的轉(zhuǎn)變，氫氣的需求量將繼續(xù)增長(zhǎng)。
氧氣	O?用于在蝕刻中產(chǎn)生氧化物層。現(xiàn)場(chǎng)可提供雜質(zhì)少于10ppb的超純液態(tài)氧（LOX）且無(wú)需外部?jī)艋鳌?/span>
氮?dú)?/span>	N?是目前半導(dǎo)體制造中使用最多的氣體。它用于吹掃真空泵，排放系統(tǒng)，還可以用來(lái)做為一種工藝氣體。在大型的，先進(jìn)的工廠，氮?dú)獾南牧靠蛇_(dá)每小時(shí)5萬(wàn)立方米，這使得工廠需要成本效益好，低能耗的現(xiàn)場(chǎng)氮?dú)獍l(fā)生器。

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